Sposób wytwarzania wzorów w warstwie SixN metodą litografii elektronowej

Nazwa rezultatu

Sposób wytwarzania wzorów w warstwie SixN metodą litografii elektronowej

Wydział PWr

W12 Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Status IP

Zgłoszenie patentowe

Numer aplikacji UPRP

P.428894

Data zgłoszenia w UPRP

13/02/2019

Nr sprawy

P.428894

Twórcy

Indykiewicz Kornelia,

Paszkiewicz Regina,

Paszkiewicz Bogdan

Dane kontaktowe do konsultanta / Imię i nazwisko

Jacek Pietrzak, tel. 71 320 43 42, e-mail: jacek.pietrzak@pwr.edu.pl; Tomasz Marciniszyn, tel. 71 320 41 95, e-mail: tomasz.marciniszyn@pwr.edu.pl; Anna Szczypka, tel. 71 320 43 51, e-mail: anna.szczypka@pwr.edu.pl